Scopus Eşleşmesi Bulundu
19
Atıf
10
Cilt
361-369
Sayfa
Özet
The current–capacitance-voltage characteristics of Re/n-type Si Schottky contacts have been measured in the temperature range of 60–300 K by steps of 20 K. The ohmic and Schottky contacts are made by the Pulsed Laser Deposition (PLD) technique. The values of barrier heights, ideality factors and serial resistances have been found to be strongly temperature dependent. In short, the ideality factor decreased and the barrier height increased with increasing temperature, when the temperature-dependent (I−V) characteristics were analyzed on the basis of the thermionic emission (TE) theory. The experimental barrier height and ideality factor were plotted against (kT) −1 which gives two slopes, one is over the 60–140 K region and the other is over the 160–300 K region presenting a double Gaussian distribution of barrier heights. Two Gaussian distribution analyses of the I−V characteristics of the Re/n-type Si Schottky barrier diodes gave the mean barrier heights of 0.812 and 0.473 eV and standard deviations (σs) of 102 mV and 55 mV, respectively. Therefore, these values of the mean barrier height have been verified with the modified ln(I0/ T2) - q2σo2/2 k2T2 vs (k T)−1 plot which belongs to two temperature sections.
Web of Science Eşleşmesi Bulundu
19
WoS Atıf
10
Cilt
Article
Belge Türü
Kaynak: SILICON
· s. 361-369
Anahtar Kelimeler (WoS)
Havuzumuzdaki Atıflar 0
Bu makaleye, sistemimizdeki Scopus veritabanında bulunan 0 makale atıf yapmıştır. Scopus genel atıf sayısı: 19.
Bu makaleye, kendi Scopus havuzumuzdaki başka bir makaleden atıf kaydı bulunmuyor.
Scimago Dergi Bilgisi
Otomatik ISSN Eşleştirmesi
2016 yılı verileri
Silicon
Q3
SJR Quartile
0,294
SJR Skoru
61
H-Index
Kategoriler: Electronic, Optical and Magnetic Materials (Q3)
Alanlar: Materials Science
Ülke: Netherlands
· Springer Netherlands
Bu bilgiler makale yılına göre Scimago veritabanından ISSN eşleştirmesiyle otomatik getirilmektedir.
Dergi sıralama verileri Scimago'nun ilgili yılı baz alınmaktadır.
Anahtar Kelimeler
WoS |
Bir kelimeye tıklayıp ilgili kaynaktaki yayınları görün.
Makale Bilgileri
Dergi
Silicon
ISSN
1876-990X
Yıl
2016
/ 3. ay
Cilt / Sayı
10
/ 2
Sayfalar
361 – 369
Makale Türü
Özgün Makale
Hakemlik
Hakemli
Endeks
SCI-Expanded
JCR Quartile
Q3
Teşvik Puanı
324,00
· YÖKSİS Akademik Teşvik
Yayın Dili
İngilizce
Kapsam
Uluslararası
Toplam Yazar
4 kişi
Erişim Türü
Basılı
Alan
Fen Bilimleri ve Matematik Temel Alanı-
Fizik
YÖKSİS Yazar Kaydı
Yazar Adı
DURMUŞ HAZİRET,KILIÇ HAMDİ ŞÜKÜR,Gezgin Serap Yiğit,KARATAŞ ŞÜKRÜ
YÖKSİS ID
3553272